Startup-i norvegjez Lace Lithography, me mbështetje nga Microsoft, ka tërhequr 40 milion dollarë në raundin e parë të financimit për zhvillimin e një skaneri litografik që përdor një rreze atomike helium për procesimin e pllaka silikon. Kompania pret që teknologjia e saj të lejojë krijimin e elementeve të çipave që janë 10 herë më të vogla se sistemet ekzistuese të litografisë, me një gjerësi rreze prej vetëm 0,1 nm — skanerët EUV të ASML përdorin rrezatim me gjatësi vale prej 13,5 nm.
Avantazhi i sistemit Lace është se atomet nuk e kanë kufirin e difrakcionit, ndërsa litografia fotonike, duke përfshirë sistemet EUV të ASML, është e kufizuar nga gjatësi vala e dritës që përdoret. Ndërsa prodhuesit e çipave po ulin dimensionet e elementeve, ata mbështeten në metoda gjithnjë e më komplekse të formimit të shumë fletëve për të anashkaluar këtë kufizim, por Lace përdor një qasje tjetër, duke zëvendësuar fotonët me atome heliumi neutralë dhe një rreze, gjerësia e së cilës është përafërsisht e barabartë me gjerësinë e një atomi të hidrogjenit.
Lace i përshkruan sistemet e saj si BEUV, ose Beyond-EUV ("përtej EUV"). Drejtori ekzekutiv dhe bashkëthemelues i Lace, Bodil Holst, tha se teknologjia e zhvilluar nga kompania do t'u lejojë prodhuesve të çipave të printojnë pllaka me "shkallëzim përfundimtar atomik". Drejtori shkencor i litografisë në Imec, John Petersen, mendon se kjo qasje mund të zvogëlojë tranzistorët dhe elemente të tjera në një rend, deri në një shkallë "gati të paimagjinueshme".
Lace është bashkuar me numrin në rritje të startup-eve që zhvillojnë alternativa për litografinë e avancuar të ASML. Kompanitë amerikane Substrate dhe xLight po zhvillojnë burime drite të bazuara në përshpejtuesit e grimcave për litografinë EUV ose rëntgen, ndërsa xLight ka marrë 150 milion dollarë financim nga qeveria amerikane. Canon ka dorëzuar mjetin e saj të parë për litografinë e nanoshkëmbimit në Institutin Elektronik të Teksasit që në Shtator 2024 dhe kompania kineze Prinano sapo ka prezantuar sistemin e saj të litografisë së nanoshkëmbimit në tregun e brendshëm.
Megjithatë, qasja e Lace është ndryshe nga të gjitha këto kompanitë. Ndërsa Substrate dhe xLight përsëri përdorin fotone, Lace e heq plotësisht elektromagnetizmin. Edhe pse Lace ka krijuar tashmë prototipet e sistemit, diferenca midis laboratorit dhe prodhimit, si gjithmonë, është e madhe. Aktualisht, kompania planifikon të vendosë një platformë provuese në një ndërmarrje pilot deri në vitin 2029, ndërsa afatet për kalimin në prodhimin serial ende nuk janë shpallur.
Është e rëndësishme të theksojmë se ASML ka shpenzuar dekada dhe miliarda dollarë për të transformuar EUV-lithografinë nga një koncept kërkimor në një produkt tregu. Tani për tani, në Lace punojnë më shumë se 50 njerëz në Norvegji, Spanjë, Mbretërinë e Bashkuar dhe Holandë, dhe rezultatet e para të hulumtimeve të saj kompania i paraqiti për herë të parë në konferencën SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Burimi:
Burimi: 3dnews.ru
