Den norska startupen Lace Lithography, med stöd av Microsoft, har fĂ„tt in 40 miljoner dollar i en första finansieringsrunda för att utveckla en litografisk scanner som anvĂ€nder en strĂ„le av heliumatomer för att bearbeta kiselplattor. Företaget hĂ€vdar att deras teknik kommer att möjliggöra skapandet av chipkomponenter som Ă€r tio gĂ„nger mindre Ă€n vad som Ă€r möjligt med befintliga litografisystem, med en strĂ„lebredd pĂ„ endast 0,1 nm â EUV-scanners frĂ„n ASML anvĂ€nder strĂ„lning med en vĂ„glĂ€ngd pĂ„ 13,5 nm.
Fördelen med Lace-systemet Àr att atomer inte har en diffraktionsgrÀns, medan fotolitografi, inklusive EUV-system frÄn ASML, Àr begrÀnsad av vÄglÀngden pÄ det ljus som anvÀnds. I takt med att chipproducenter minskar storlekarna pÄ komponenterna förlitar de sig pÄ allt mer komplexa metoder för flerlagersmönstring för att komma runt denna begrÀnsning, men Lace anvÀnder en annan metod som ersÀtter fotoner med neutrala heliumatomer och en strÄle vars bredd Àr ungefÀr lika med bredden pÄ en vÀteatom.
Lace beskriver sina system som BEUV, eller Beyond-EUV. VD:n och medgrundaren Bodil Holst har uttryckt att den teknik som utvecklats av företaget kommer att möjliggöra för chipproducenter att trycka plattor med "i slutÀndan atomupplösning". Forskardirektören för litografi vid Imec, John Petersen, anser att denna metod kan minska transistorer och andra komponenter med en ordning av storlek, till en "nÀstan ofattbar" grad.
Lace har anslutit sig till det vÀxande antalet startups som utvecklar alternativ till den avancerade litografin frÄn ASML. Amerikanska företag som Substrate och xLight arbetar med ljuskÀllor baserade pÄ partikelacceleratorer för EUV- eller röntgenlitografi, dÀr xLight har fÄtt 150 miljoner dollar i statlig finansiering frÄn USA. Canon levererade sitt första verktyg för nanoimprintlitografi till Texas Institute of Electronics redan i september 2024, och det kinesiska företaget Prinano presenterade nyligen sitt eget nanoimprintlitografisystem pÄ den inhemska marknaden.
Men Lace's metod skiljer sig frĂ„n alla dessa företag. Medan Substrate och xLight fortfarande anvĂ€nder fotoner, avvisar Lace helt elektromagnetisk strĂ„lning. Ăven om Lace redan har skapat prototyper av systemet, Ă€r klyftan mellan laboratoriet och produktionen, som alltid, enorm. För nĂ€rvarande planerar företaget att lansera en testbĂ€nk pĂ„ en pilotanlĂ€ggning senast 2029, men tidsramarna för övergĂ„ngen till serieproduktion anges för nĂ€rvarande inte.
Det Àr vÀrt att notera att ASML har spenderat Ärtionden och miljarder dollar pÄ att förvandla EUV-litografi frÄn en forskningskoncept till en kommersiell produkt. I Lace arbetar för nÀrvarande över 50 personer i Norge, Spanien, Storbritannien och NederlÀnderna, och företaget presenterade för första gÄngen resultaten av sina studier pÄ konferensen SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
KĂ€lla:
KĂ€lla: 3dnews.ru
