TSMC kommer att erbjuda förbättrad 2021nm processteknik 5

Enligt Intels ledning kommer de att göra det när mikroprocessorjättens första 7nm-produkter debuterar om två år kommer att tävla med 5nm-produkter från taiwanesiska TSMC. Ja, men inte så. Taiwanesiska källor citerar anonyma representanter för öindustrin skynda att förtydligaatt Intel 2021 kommer att behöva ta itu med TSMC:s förbättrade 5nm-processteknik. Detta blir N5+ eller 5 nm Plus processteknologi - den andra generationen av 5 nm processteknik från världens största kontraktschiptillverkare.

Som ni vet, som TSMC-ledningen regelbundet påminner om, lanserade företaget riskabel produktion med 5 nm-standarder under det första kvartalet i år. Massproduktion med 5 nm (5N) standarder startar under första eller andra kvartalet 2020. Det finns en nyans i den exakta tidpunkten för lanseringen av massproduktion med 5 nm-standarder av TSMC. För att arbeta med dessa tekniska standarder bygger företaget en ny fabrik - Fab 18. Så snart Fab 18 är klar bemyndigad, kan vi prata om produktionsstart med 5 nm standarder. Denna process kan sträcka sig från slutet av 2019 till och med andra kvartalet 2020. Men även om vi tar deadlines kommer TSMC att lansera kommersiell produktion med 5 nm-standarder senast i april-juni 2020.

Av ovanstående följer att företaget kommer att påbörja riskfylld produktion med N5+-standarder eller en förbättrad 5nm processteknologi under första kvartalet 2020. Det säger källan direkt. Ett år senare kommer företaget att vara redo att börja massproduktion av chips med hjälp av N5+ processteknologi. Det är denna processteknik som Intel kommer att behöva jämföra sina tillverkningsprestationer med när de introducerar sina första 2021nm diskreta grafikprocessorer 7. AMD och NVIDIA, som långvariga kunder till TSMC, har vid det här laget alla möjligheter att släppa både 5-nm GPU:er och har planer på att lansera grafiklösningar med en förbättrad 5-nm processteknik.

Hittills finns det inget att säga om processteknologin TSMC N5+, förutom en sak. Denna process kommer delvis att använda EUV-skannrar. Användningsdjupet för 13,5 nm skannrar kommer att avgöra hur mycket bättre N5+-processen är än N5-processen.

Källa: 3dnews.ru