{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/sv\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abUtanf\u00f6r EUV\u00bb: Lace Lithography f\u00f6rbereder litografi med heliumatomer med en uppl\u00f6sning p\u00e5 0,1 nm.","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Den norska startupen Lace Lithography, med st\u00f6d av Microsoft, har f\u00e5tt in 40 miljoner dollar i en f\u00f6rsta finansieringsrunda f\u00f6r att utveckla en litografisk scanner som anv\u00e4nder en str\u00e5le av heliumatomer f\u00f6r att bearbeta kiselplattor. F\u00f6retaget h\u00e4vdar att deras teknik kommer att m\u00f6jligg\u00f6ra skapandet av chipkomponenter som \u00e4r tio g\u00e5nger mindre \u00e4n vad som \u00e4r m\u00f6jligt med befintliga litografisystem, med en str\u00e5lebredd p\u00e5 endast 0,1 nm \u2013 EUV-scanners fr\u00e5n ASML anv\u00e4nder str\u00e5lning med en v\u00e5gl\u00e4ngd p\u00e5 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abUtanf\u00f6r<\/p>\n

F\u00f6rdelen med Lace-systemet \u00e4r att atomer inte har en diffraktionsgr\u00e4ns, medan fotolitografi, inklusive EUV-system fr\u00e5n ASML, \u00e4r begr\u00e4nsad av v\u00e5gl\u00e4ngden p\u00e5 det ljus som anv\u00e4nds. I takt med att chipproducenter minskar storlekarna p\u00e5 komponenterna f\u00f6rlitar de sig p\u00e5 allt mer komplexa metoder f\u00f6r flerlagersm\u00f6nstring f\u00f6r att komma runt denna begr\u00e4nsning, men Lace anv\u00e4nder en annan metod som ers\u00e4tter fotoner med neutrala heliumatomer och en str\u00e5le vars bredd \u00e4r ungef\u00e4r lika med bredden p\u00e5 en v\u00e4teatom.<\/p>\n

Lace beskriver sina system som BEUV, eller Beyond-EUV. VD:n och medgrundaren Bodil Holst har uttryckt att den teknik som utvecklats av f\u00f6retaget kommer att m\u00f6jligg\u00f6ra f\u00f6r chipproducenter att trycka plattor med \"i slut\u00e4ndan atomuppl\u00f6sning\". Forskardirekt\u00f6ren f\u00f6r litografi vid Imec, John Petersen, anser att denna metod kan minska transistorer och andra komponenter med en ordning av storlek, till en \"n\u00e4stan ofattbar\" grad.<\/p>\n

Lace har anslutit sig till det v\u00e4xande antalet startups som utvecklar alternativ till den avancerade litografin fr\u00e5n ASML. Amerikanska f\u00f6retag som Substrate och xLight arbetar med ljusk\u00e4llor baserade p\u00e5 partikelacceleratorer f\u00f6r EUV- eller r\u00f6ntgenlitografi, d\u00e4r xLight har f\u00e5tt 150 miljoner dollar i statlig finansiering fr\u00e5n USA. Canon levererade sitt f\u00f6rsta verktyg f\u00f6r nanoimprintlitografi till Texas Institute of Electronics redan i september 2024, och det kinesiska f\u00f6retaget Prinano presenterade nyligen sitt eget nanoimprintlitografisystem p\u00e5 den inhemska marknaden.<\/p>\n

Men Lace's metod skiljer sig fr\u00e5n alla dessa f\u00f6retag. Medan Substrate och xLight fortfarande anv\u00e4nder fotoner, avvisar Lace helt elektromagnetisk str\u00e5lning. \u00c4ven om Lace redan har skapat prototyper av systemet, \u00e4r klyftan mellan laboratoriet och produktionen, som alltid, enorm. F\u00f6r n\u00e4rvarande planerar f\u00f6retaget att lansera en testb\u00e4nk p\u00e5 en pilotanl\u00e4ggning senast 2029, men tidsramarna f\u00f6r \u00f6verg\u00e5ngen till serieproduktion anges f\u00f6r n\u00e4rvarande inte.<\/p>\n

Det \u00e4r v\u00e4rt att notera att ASML har spenderat \u00e5rtionden och miljarder dollar p\u00e5 att f\u00f6rvandla EUV-litografi fr\u00e5n en forskningskoncept till en kommersiell produkt. I Lace arbetar f\u00f6r n\u00e4rvarande \u00f6ver 50 personer i Norge, Spanien, Storbritannien och Nederl\u00e4nderna, och f\u00f6retaget presenterade f\u00f6r f\u00f6rsta g\u00e5ngen resultaten av sina studier p\u00e5 konferensen SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

K\u00e4lla:<\/strong><\/p>\n