- Bu ürün, sunucu sistemlerinde bilgi işlemi hızlandırmak için tasarlanmış bir grafik işlemci olacaktır.
- Watt başına verimlilik %20 artacak, transistörlerin yoğunluğu iki katına çıkacak.
- 2020'de Intel'in 10nm grafik işlemcisini piyasaya sürmek için zamanı olacak.
- 2023 yılına kadar 7 nm süreç teknolojisinin üç nesli değişecek.
Intel, CPU ve GPU geliştiricisinin teknolojik ve finansal potansiyelinin soğukkanlı ve rasyonel zekasına güven aşılamak için tasarlanmış bir yatırımcı etkinliği düzenledi. Evet, evet, Intel temsilcileri raporlarında ikinci tür bileşenlere merkezi işlemcilerden daha az dikkat etmediler.
Peşinde TSMC
CEO Robert Swan, yatırımcılara Intel'in genel gelişim ve dönüşüm yönü hakkında bilgi verirken, şirketin litografi teknolojilerindeki liderliğini sürdürmek için ciddi kaynaklara yatırım yapacağını da belirtmenin gerekli olduğunu hissetti. Ciddi anlamda Intel'in bu alandaki ilerlemesi TSMC'nin başarılarıyla karşılaştırıldı. Dizüstü bilgisayarlar için ilk 10nm Ice Lake işlemciler Haziran ayında tanıtılacak, Ice Lake-SP sunucu işlemcileri ise TSMC'nin müşterilerine aktif olarak 2020nm ürünleri tedarik edeceği 7'nin ilk yarısında ortaya çıkacak. Intel, 2021'de ilk 7nm ürünlerini piyasaya sürmeyi bekliyor; o zamana kadar TSMC, 5nm ürünler üretmiş olacak.
Genel olarak ana Başkan Yardımcısı Venkata Renduchintala, Intel'in 7 nm süreç teknolojisinin geliştirilmesindeki başarılarından bahsetti. Ama önce 10 teknolojik sürecin gelişiminde üç neslin üstesinden geleceğini açıkladı. Birincisi bu yıl piyasaya çıkacak (bu, Cannon Lake formundaki önceki girişimi saymıyor), ikincisi 2020'de başlayacak ve üçüncüsü ise 7'deki 2021 nm teknik sürecine paralel olarak zaten var olacak.
Birinci nesil 7 nm işlem teknolojisi, 10 nm işleme kıyasla transistörlerin yoğunluğunu iki katına çıkaracak, tüketilen enerjinin watt başına performansı açısından transistör performansını %20 artıracak ve tasarım sürecini dört kat basitleştirecek. Intel ilk kez 7 nm teknolojisi çerçevesinde ultra sert ultraviyole litografi kullanacak. Ayrıca Foveros heterojen düzeni ve yeni nesil EMIB substratı da aynı aşamada tanıtılacak.
Intel'in sunumuna göre 7 nm süreç teknolojisinin kendisi de gelişiminde üç aşamadan geçecek ve 2023'e kadar her yıl yeni bir aşama ortaya çıkacak. 7 nm teknolojisi, farklı kristallerin tek bir alt tabaka üzerinde (sözde "yongalar") birleştirilmesine olanak tanıyan bir düzeni tam olarak kullanacak.
7nm işlem teknolojisinde ilk doğan ayrık bir grafik çözümü olacak
7nm teknolojisi kullanılarak üretilen ilk ürünün 2021 yılında sunulması gerekiyor. Bunun veri merkezlerinde ve yapay zeka sistemlerinde uygulama bulacak genel amaçlı bir grafik işlemcisi olacağı zaten biliniyor. Intel daha önce "Intel Xe" mimarisini adlandırmaya direnmiş olsa da, yatırımcı sunumunda yaptıkları da tam olarak bu. 7nm'lik ilk doğanın farklı kristallerden oluşturulacağını ve gelişmiş paketleme yöntemlerini benimseyeceğini belirtmek önemlidir.
Intel, bundan önce 2020 yılında 10nm teknolojisi kullanılarak üretilecek ayrık bir grafik işlemcisinin piyasaya sürüleceğini özellikle vurguluyor. Uygulama kapsamını tüketici segmentiyle sınırlaması oldukça muhtemel ve Intel, sunucu segmenti için 7 nm'lik versiyonu kaydedecek. Daha önce de belirtildiği gibi Intel'in ayrık GPU'ları, entegre grafik çekirdeklerinden miras alınan bir mimariyi kullanacak. Bu ürünlerin öncüsü, Intel'in 11nm ürünlerinin çoğuna yerleştireceği Gen10 nesil grafikler olacak.
Sıra Intel'in yeni CFO'su George Davis'e geldiğinde, 10 nm süreç teknolojisinden 7 nm süreç teknolojisine geçiş sırasında ürünlerin tüketici niteliklerini iyileştirme arayışında olan şirketin parayı akıllıca harcamaya çalışacağını hemen söyledi. Peki, 7 nm teknik sürece hakim olduktan sonra, yeni nesil ürünlerin piyasaya sürülmesi, yatırımcıların hisse başına spesifik gelirinde bir artış sağlamalıdır.
Kaynak: 3dnews.ru