- 该产品将是一款图形处理器，旨在加速服务器系统中的计算。
- 每瓦的生产率将提高 20%，晶体管的密度将增加一倍。
- 2020年，英特尔将有时间发布10nm图形处理器。
- 到2023年，7nm工艺技术将发生三代变化。
英特尔刚刚举办了一次投资者活动，旨在向冷静、理性的 CPU 和 GPU 开发人员的技术和财务潜力灌输信心。 是的，是的，英特尔代表在他们的报告中对后一类组件的关注丝毫不亚于中央处理器。
在追求 TSMC
CEO罗伯特·斯旺（Robert Swan）向投资者谈到了英特尔发展和转型的大方向，但他也觉得有必要表示，该公司将投入大量资源来维持其在光刻技术领域的领先地位。 严肃地说，英特尔在这一领域的进步是与台积电的成功进行比较的。 首款用于笔记本电脑的10nm Ice Lake处理器将于2020月推出，Ice Lake-SP服务器处理器将于7年上半年出现，届时台积电将积极向客户提供2021nm产品。 那么，7年，英特尔预计将发布首款5nm产品——届时台积电将生产XNUMXnm产品。
一般来说，主要 副总裁Venkata Renduchintala谈到了英特尔在7纳米制程技术开发方面取得的成就。 但首先，他解释说，10项技术的发展过程将跨越三代人。 第一个将于今年首次亮相（这不包括之前以 Cannon Lake 形式进行的尝试），第二个将于 2020 年启动，第三个将在 7 年与 2021 纳米技术工艺并行存在。
第一代7纳米工艺技术将使晶体管密度比10纳米工艺提高一倍，以每瓦能耗性能计算，晶体管性能提高20%，设计流程简化四倍。 英特尔将首次在7纳米技术框架内使用超硬紫外光刻技术。 此外，Foveros异构布局和新一代EMIB基板也将同期推出。
根据英特尔的介绍，7 纳米工艺技术本身也将经历三个发展阶段，每年都会出现一个新阶段，直到 2023 年。 7 纳米技术将充分利用一种布局，允许将不同类型的晶体组合在一个基板上，即所谓的“小芯片”。
7nm制程技术上第一个诞生的将是独立显卡解决方案
第一个采用 7nm 技术生产的产品将于 2021 年推出。 众所周知，这将是一款通用图形处理器，将在数据中心和人工智能系统中找到应用。 虽然英特尔此前拒绝将“英特尔 Xe”称为架构，但这正是他们在投资者演示中所做的。 值得注意的是，7nm初生将由异种晶体组装而成，并将采用先进的封装方法。
英特尔特别强调，在此之前，2020年将发布一款独立显卡处理器，采用10nm工艺生产。 很有可能它将其应用范围限制在消费领域，英特尔将保留7纳米版本用于服务器领域。 如前所述，英特尔的独立 GPU 将使用继承自集成图形核心的架构。 这些产品的前身将是 Gen11 代显卡，英特尔将在其许多 10 纳米产品中内置该显卡。
轮到英特尔新任CFO乔治·戴维斯时，他急忙表示，为了在10纳米制程技术向7纳米制程技术过渡的过程中追求产品的消费品质提升，公司将尽量明智地花钱。 那么掌握了7纳米技术工艺之后，新一代产品的发布应该能够保证投资者每股具体收益的提升。
来源： 3dnews.ru