“克服”摩尔定律:未来的晶体管技术

我们正在讨论硅的替代品。

“克服”摩尔定律:未来的晶体管技术
/ 照片 劳拉奥克尔 Unsplash

摩尔定律、登纳德定律和库米定律正在失去意义。 原因之一是硅晶体管正在接近其技术极限。 我们详细讨论了这个话题 在上一篇文章中。 今天我们谈论的是未来可以取代硅并延长三大定律有效性的材料,这意味着提高处理器和使用它们的计算系统(包括数据中心的服务器)的效率。

碳纳米管

碳纳米管是圆柱体,其壁由碳单原子层组成。 碳原子的半径比硅的半径小,因此基于纳米管的晶体管具有更高的电子迁移率和电流密度。 结果,晶体管的工作速度提高并且功耗降低。 经过 根据 威斯康星大学麦迪逊分校的工程师表示,生产力提高了五倍。

碳纳米管比硅具有更好的特性这一事实早已为人所知——第一个这样的晶体管出现了 20 年前。 但直到最近,科学家们才成功克服了许多技术限制,创造出了一种足够有效的设备。 三年前,威斯康星大学的物理学家提出了基于纳米管的晶体管原型,其性能优于现代硅器件。

基于碳纳米管的器件的应用之一是柔性电子产品。 但到目前为止,这项技术还没有走出实验室,也没有谈到大规模实施。

石墨烯纳米带

它们是窄条状 石墨烯 几十纳米宽 被认为 制造未来晶体管的主要材料之一。 石墨烯带的主要特性是能够利用磁场加速流过它的电流。 与此同时,石墨烯 有250次 比硅具有更高的导电性。

一些数据,基于石墨烯晶体管的处理器将能够以接近太赫兹的频率运行。 而现代芯片的工作频率设定为4-5GHz。

第一个石墨烯晶体管原型 十年前出现。 从那时起工程师 试图优化 基于它们的“组装”设备的过程。 最近,来自剑桥大学的开发团队于三月份获得了第一个结果 宣布了 关于投入生产 第一个石墨烯芯片。 工程师表示,新设备可以将电子设备的运行速度提高十倍。

二氧化铪和硒化物

二氧化铪还用于生产微电路 与2007几年。 它用于在晶体管栅极上制作绝缘层。 但今天工程师建议使用它来优化硅晶体管的运行。

“克服”摩尔定律:未来的晶体管技术
/ 照片 弗里茨琴弗里茨 PD

去年年初,斯坦福大学的科学家 发现,如果二氧化铪的晶体结构以特殊方式重组,那么它 电常数 (负责介质传输电场的能力)将增加四倍以上。 如果在创建晶体管栅极时使用这种材料,可以显着减少影响 隧道效应.

还有美国科学家 找到了方法 使用铪和硒化锆减小现代晶体管的尺寸。 它们可以代替氧化硅用作晶体管的有效绝缘体。 硒化物的厚度明显更小(三个原子),同时保持良好的带隙。 这是决定晶体管功耗的指标。 工程师们已经 设法创造 几种基于铪和硒化锆的装置的工作原型。

现在工程师需要解决连接此类晶体管的问题——为它们开发合适的小触点。 只有这样,才能谈量产。

二硫化钼

硫化钼本身是一种性能较差的半导体,其性能比硅差。 但圣母大学的一组物理学家发现,钼薄膜(一个原子厚)具有独特的特性——基于它们的晶体管在关闭时不会通过电流,并且需要很少的能量来切换。 这使得它们能够在低电压下运行。

钼晶体管原型 已经发展 在实验室里。 劳伦斯·伯克利,2016 年。 该设备只有一纳米宽。 工程师们表示,这种晶体管将有助于扩展摩尔定律。

去年还有二硫化钼晶体管 已提交 来自韩国大学的工程师。 该技术有望在OLED显示器的控制电路中得到应用。 然而,目前还没有关于大规模生产此类晶体管的讨论。

尽管如此,斯坦福大学的研究人员 要求可以重建用于生产晶体管的现代基础设施,以便以最低的成本与“钼”设备一起使用。 未来是否有可能实施此类项目还有待观察。

我们在 Telegram 频道中写的内容:

来源: habr.com

添加评论