据英特尔管理层表示，当这家微处理器巨头的首款 7nm 产品在两年内首次亮相时，他们将 采用台湾台积电的5nm产品。 是的，但并非如此。 台湾消息人士援引岛内工业匿名代表的话 2021年英特尔将不得不应对台积电改进的5纳米工艺技术。 这将是 N5+ 或 5 nm Plus 工艺技术——来自全球最大合约芯片制造商的第二代 5 nm 工艺技术。
如您所知，正如台积电管理层经常提醒的那样，该公司在今年第一季度启动了 5 纳米标准的风险生产。 采用 5 nm (5N) 标准进行量产 2020 年第一或第二季度。 台积电推出 5 纳米标准量产的具体时间存在细微差别。 为了符合这些技术标准，该公司正在建设一座新工厂 - Fab 18 工厂。Fab 18 准备就绪后 ，我们可以谈谈以5纳米标准开始生产。 这一过程可能从 2019 年底持续到 2020 年第二季度（含）。 但即使我们遵守最后期限，台积电也将不迟于 5 年 2020 月至 XNUMX 月启动 XNUMX 纳米标准的商业生产。
由此可见，该公司将于5年第一季度开始采用N5+标准或改进的2020nm工艺技术进行风险生产。 消息来源直接这么说。 一年后，该公司将准备开始使用N5+工艺技术大规模生产芯片。 英特尔将在 2021 年推出首款 7nm 独立显卡处理器时将其制造成就与此工艺技术进行比较。 AMD和NVIDIA作为台积电的长期客户，此时完全有机会发布两款5纳米GPU，并计划推出基于改进的5纳米工艺技术的图形解决方案。
迄今为止，关于台积电 N5+ 工艺技术，除了一件事之外，没有什么可说的。 此过程将部分使用 EUV 扫描仪。 13,5 nm扫描仪的使用深度将决定N5+工艺比N5工艺好多少。
来源： 3dnews.ru