- 該產品將是一款圖形處理器，旨在加速伺服器系統中的運算。
- 每瓦的生產率將提高 20%，電晶體的密度將增加一倍。
- 2020年，英特爾將有時間發表10nm圖形處理器。
- 到2023年，7nm製程技術將發生三代變化。
英特爾剛剛舉辦了一次投資者活動，旨在向冷靜、理性的 CPU 和 GPU 開發人員的技術和財務潛力灌輸信心。 是的，是的，英特爾代表在他們的報告中對後一類組件的關注絲毫不亞於中央處理器。
在追求 TSMC
CEO羅伯特·斯旺（Robert Swan）向投資者談到了英特爾發展和轉型的大方向，但他也覺得有必要表示，該公司將投入大量資源來維持其在光刻技術領域的領先地位。 嚴肅地說，英特爾在這一領域的進步是與台積電的成功進行比較的。 首款用於筆記型電腦的10nm Ice Lake處理器將於2020月推出，Ice Lake-SP伺服器處理器將於7年上半年出現，屆時台積電將積極向客戶提供2021nm產品。 那麼，7年，英特爾預計將發表首款5nm產品－屆時台積電將生產XNUMXnm產品。
一般來說，主要 副總裁Venkata Renduchintala談到了英特爾在7奈米製程技術開發方面所取得的成就。 但首先，他解釋說，10項技術的發展過程將跨越三代。 第一個將於今年首次亮相（這不包括先前以 Cannon Lake 形式進行的嘗試），第二個將於 2020 年啟動，第三個將在 7 年與 2021 奈米技術工藝並行存在。
第一代7奈米製程技術將使電晶體密度比10奈米製程提高一倍，以每瓦能耗性能計算，電晶體性能提高20%，設計流程簡化四倍。 英特爾將首次在7奈米技術框架內使用超硬紫外光刻技術。 此外，Foveros異質佈局和新一代EMIB基板也將同期推出。
根據英特爾的介紹，7 奈米製程技術本身也將經歷三個發展階段，每年都會出現一個新階段，直到 2023 年。 7 奈米技術將充分利用一種佈局，允許將不同類型的晶體組合在一個基板上，即所謂的「小晶片」。
7nm製程技術上第一個誕生的將是獨立顯示卡解決方案
第一款採用 7nm 技術生產的產品將於 2021 年推出。 眾所周知，這將是一款通用圖形處理器，將在資料中心和人工智慧系統中找到應用。 雖然英特爾先前拒絕將「英特爾 Xe」稱為架構，但這正是他們在投資者演示中所做的。 需要注意的是，7nm初生將由異種晶體組裝而成，並將採用先進的封裝方法。
英特爾特別強調，在此之前，2020年將發表一款獨立顯示卡處理器，採用10nm製程生產。 很有可能它將其應用範圍限制在消費領域，英特爾將保留7奈米版本用於伺服器領域。 如前所述，英特爾的獨立 GPU 將使用繼承自整合式圖形核心的架構。 這些產品的前身將是 Gen11 代顯卡，英特爾將在其許多 10 奈米產品中內建該顯示卡。
輪到英特爾新任CFO喬治·戴維斯時，他急忙表示，為了在10奈米製程技術向7奈米製程技術過渡的過程中追求產品的消費品質提升，公司將盡量明智地花錢。 那麼掌握了7奈米技術製程之後，新一代產品的發表應該能夠保證投資人每股具體收益的提升。
來源： 3dnews.ru