早在 0,75 月份，光刻掃描儀領域的領導者 ASML 就談到了下一個十年開始時出現的允許使用 XNUMX 超高數值孔徑值（Hyper-NA EUV）的系統的前景。 Imec 代表聲稱，在未來十年內，光刻技術將不會放棄使用雷射和矽。圖片來源：ASML來源： 3dnews.ru
