「克服」摩爾定律:未來的電晶體技術

我們正在討論矽的替代品。

「克服」摩爾定律:未來的電晶體技術
/ 照片 勞拉奧克爾 Unsplash

摩爾定律、登納德定律和庫米定律正在失去意義。 原因之一是矽晶體管正在接近其技術極限。 我們詳細討論了這個主題 在上一篇文章中。 今天我們談論的是未來可以取代矽並延長三大定律有效性的材料,這意味著提高處理器和使用它們的計算系統(包括資料中心的伺服器)的效率。

碳奈米管

碳奈米管是圓柱體,其壁由碳單原子層組成。 碳原子的半徑比矽的半徑小,因此基於奈米管的電晶體具有更高的電子遷移率和電流密度。 結果,晶體管的工作速度提高並且功耗降低。 經過 根據 威斯康辛大學麥迪遜分校的工程師表示,生產力提高了五倍。

碳奈米管比矽具有更好的特性這一事實早已為人所知——第一個這樣的晶體管出現了 20多年前。 但直到最近,科學家才成功克服了許多技術限制,創造了足夠有效的設備。 三年前,威斯康辛大學的物理學家提出了基於奈米管的電晶體原型,其性能優於現代矽元件。

基於碳奈米管的裝置的應用之一是柔性電子產品。 但到目前為止,這項技術還沒有走出實驗室,也沒有談到大規模實施。

石墨烯奈米帶

它們是窄條狀 石墨烯 數十奈米寬 被認為 製造未來電晶體的主要材料之一。 石墨烯帶的主要特性是能夠利用磁場加速流過它的電流。 同時,石墨烯 有250次 比矽具有更高的導電性。

一些數據,基於石墨烯晶體管的處理器將能夠以接近太赫茲的頻率運作。 而現代晶片的工作頻率設定為4-5GHz。

第一個石墨烯電晶體原型 十年前出現。 從那時起工程師 試圖優化 基於它們的“組裝”設備的過程。 最近,來自劍橋大學的開發團隊在三月獲得了第一個結果 宣布了 關於投入生產 第一個石墨烯晶片。 工程師表示,新設備可以將電子設備的運作速度提高十倍。

二氧化鉿和硒化物

二氧化鉿也用於生產微電路 與2007幾年。 它用於在晶體管柵極上製作絕緣層。 但今天工程師建議使用它來優化矽晶體管的運作。

「克服」摩爾定律:未來的電晶體技術
/ 照片 弗里茨森斯·弗里茨 PD

去年年初,史丹佛大學的科學家 發現,如果二氧化鉿的晶體結構以特殊方式重組,那麼它 電常數 (負責介質傳輸電場的能力)將增加四倍以上。 如果在創建電晶體閘極時使用這種材料,可以顯著減少影響 隧道效應.

還有美國科學家 找到了辦法 使用鉿和硒化鋯來減小現代電晶體的尺寸。 它們可以代替氧化矽用作晶體管的有效絕緣體。 硒化物的厚度明顯較小(三個原子),同時保持良好的帶隙。 這是決定晶體管功耗的指標。 工程師們已經 設法創造 幾種基於鉿和硒化鋯的裝置的工作原型。

現在工程師需要解決連接此類電晶體的問題——為它們開發合適的小觸點。 這樣,才能談量產。

二硫化鉬

硫化鉬本身是一種性能較差的半導體,其性能比矽差。 但聖母大學的一組物理學家發現,鉬薄膜(一個原子厚)具有獨特的特性——基於它們的電晶體在關閉時不會通過電流,並且需要很少的能量來切換。 這使得它們能夠在低電壓下運行。

鉬晶體管原型 發達 在實驗室裡。 勞倫斯‧伯克利,2016 年。 該設備只有一奈米寬。 工程師表示,這種電晶體將有助於擴展摩爾定律。

去年還有二硫化鉬晶體管 已提交 來自韓國大學的工程師。 該技術可望在OLED顯示器的控制電路中得到應用。 然而,目前還沒有關於大規模生產此類電晶體的討論。

儘管如此,史丹佛大學的研究人員 要求可以重建用於生產晶體管的現代化基礎設施,以便以最低的成本與“鉬”設備一起使用。 未來是否有可能實施此類項目還有待觀察。

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來源: www.habr.com

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