TSMC minggu ini menguasai peringkat baharu teknologi litografi, yang ditetapkan N6. Siaran akhbar menyatakan bahawa peringkat litografi ini akan dibawa ke peringkat pengeluaran risiko menjelang suku pertama 2020, tetapi hanya transkrip persidangan pelaporan TSMC suku tahunan membolehkan untuk mengetahui butiran baharu tentang masa pembangunan apa yang dipanggil teknologi 6-nm.
Harus diingat bahawa TSMC sudah pun mengeluarkan secara besar-besaran pelbagai produk 7-nm - pada suku terakhir mereka membentuk 22% daripada pendapatan syarikat. Menurut ramalan pengurusan TSMC, tahun ini proses teknologi N7 dan N7+ akan menyumbang sekurang-kurangnya 25% daripada hasil. Generasi kedua teknologi proses 7nm (N7+) melibatkan peningkatan penggunaan litografi ultra-keras ultraungu (EUV). Pada masa yang sama, seperti yang ditekankan oleh wakil TSMC, pengalaman yang diperoleh semasa pelaksanaan proses teknikal N7+ yang membolehkan syarikat itu menawarkan pelanggan proses teknikal N6, yang sepenuhnya mengikut ekosistem reka bentuk N7. Ini membolehkan pembangun bertukar daripada N7 atau N7+ kepada N6 dalam masa yang sesingkat mungkin dan dengan kos bahan yang minimum. Ketua Pegawai Eksekutif CC Wei malah menyatakan keyakinan pada persidangan suku tahunan bahawa semua pelanggan TSMC yang menggunakan proses 7nm akan bertukar kepada teknologi 6nm. Sebelum ini, dalam konteks yang sama, beliau menyebut kesediaan "hampir semua" pengguna teknologi proses 7nm TSMC untuk berhijrah ke teknologi proses 5nm.
Adalah wajar untuk menerangkan kelebihan yang disediakan oleh teknologi proses 5nm (N5) yang dibuat oleh TSMC. Seperti yang diakui Xi Xi Wei, dari segi kitaran hayat, N5 akan menjadi salah satu yang paling "tahan lama" dalam sejarah syarikat. Pada masa yang sama, dari sudut pandangan pembangun, ia akan berbeza dengan ketara daripada teknologi proses 6-nm, jadi peralihan kepada piawaian reka bentuk 5-nm akan memerlukan usaha yang ketara. Sebagai contoh, jika teknologi proses 6nm memberikan peningkatan 7% dalam ketumpatan transistor berbanding 18nm, maka perbezaan antara 7nm dan 5nm akan menjadi sehingga 80%. Sebaliknya, peningkatan kelajuan transistor tidak akan melebihi 15%, jadi tesis tentang memperlahankan tindakan "undang-undang Moore" disahkan dalam kes ini.
Semua ini tidak menghalang ketua TSMC daripada mendakwa bahawa teknologi proses N5 akan menjadi "yang paling kompetitif dalam industri." Dengan bantuannya, syarikat itu menjangka bukan sahaja untuk meningkatkan bahagian pasarannya dalam segmen sedia ada, tetapi juga untuk menarik pelanggan baharu. Dalam konteks menguasai teknologi proses 5nm, harapan khusus diletakkan pada segmen penyelesaian untuk pengkomputeran berprestasi tinggi (HPC). Kini ia menyumbang tidak lebih daripada 29% daripada hasil TSMC, dan 47% daripada hasil datang daripada komponen untuk telefon pintar. Dari masa ke masa, bahagian segmen HPC perlu meningkat, walaupun pemaju pemproses untuk telefon pintar akan bersedia untuk menguasai piawaian litografi baharu. Pembangunan rangkaian penjanaan 5G juga akan menjadi salah satu sebab pertumbuhan hasil pada tahun-tahun akan datang, syarikat percaya.
Akhirnya, Ketua Pegawai Eksekutif TSMC mengesahkan permulaan pengeluaran bersiri menggunakan teknologi proses N7+ menggunakan litografi EUV. Tahap hasil produk yang sesuai menggunakan teknologi proses ini adalah setanding dengan teknologi 7nm generasi pertama. Pengenalan EUV, menurut Xi Xi Wei, tidak dapat memberikan pulangan ekonomi segera - walaupun kosnya agak tinggi, tetapi sebaik sahaja pengeluaran "mendapat momentum", kos pengeluaran akan mula menurun pada kadar yang biasa untuk beberapa tahun kebelakangan ini.
Sumber: 3dnews.ru