Samsung သည် 5nm ချစ်ပ်များထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အမှာစာများကို စတင်လက်ခံနေပြီဖြစ်သည်။

Samsung သည် EUV စကင်နာများကို အသုံးပြု၍ semiconductor lithography တွင် ၎င်း၏ရှေ့ဆောင်အားသာချက်ကို အပြည့်အဝအသုံးချနေသည်။ TSMC သည် ဇွန်လတွင် 13,5 nm စကင်နာများကို စတင်အသုံးပြုရန် ပြင်ဆင်နေပြီး 7 nm လုပ်ငန်းစဉ်၏ ဒုတိယမျိုးဆက်တွင် ချစ်ပ်များထုတ်လုပ်ရန်အတွက် ၎င်းတို့ကို လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်နေသောကြောင့် Samsung သည် ပိုမိုနက်ရှိုင်းစွာ နက်နက်ရှိုင်းရှိုင်းလုပ်ဆောင်နေပါသည်။ ကြေငြာသည် 5 nm ဒီဇိုင်းစံနှုန်းများဖြင့် နည်းပညာဆိုင်ရာ လုပ်ငန်းစဉ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေး ပြီးစီးမှုအပေါ်။ ထို့အပြင်၊ တောင်ကိုရီးယားကုမ္ပဏီကြီးသည် ဒီဇိုင်းပေါင်းများစွာသော wafers များထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက် 5-nm ဖြေရှင်းချက်ထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက် အမှာစာများကို စတင်လက်ခံကြောင်း ကြေညာခဲ့သည်။ ဆိုလိုသည်မှာ Samsung သည် 5 nm စံနှုန်းများဖြင့် ဒစ်ဂျစ်တယ် ချစ်ပ်ဒီဇိုင်းများကို လက်ခံပြီး 5 nm silicon အလုပ်လုပ်သည့် ရှေ့ပြေးအုပ်စုများကို ထုတ်လုပ်ရန် အဆင်သင့်ဖြစ်နေပြီဟု ဆိုလိုပါသည်။

ကုမ္ပဏီအား 7nm ဖြင့် EUV ကမ်းလှမ်းခြင်းမှ EUV ဖြင့် 5nm ဖြေရှင်းချက်များအား ထုတ်လုပ်ခြင်းအထိ Samsung သည် ဒီဇိုင်းဒြပ်စင်များ (IP)၊ ဒီဇိုင်းနှင့် စစ်ဆေးရေးကိရိယာများအကြား အပြန်အလှန်လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို ထိန်းသိမ်းထားသောကြောင့် ကုမ္ပဏီအား လျင်မြန်စွာ ပြောင်းရွှေ့ကူညီပေးခြင်းပင်ဖြစ်သည်။ အခြားအရာများထဲတွင်၊ ဆိုလိုသည်မှာ ကုမ္ပဏီ၏ဖောက်သည်များသည် ဒီဇိုင်းကိရိယာများဝယ်ယူခြင်း၊ စမ်းသပ်ခြင်းနှင့် အဆင်သင့်လုပ်ထားသော IP ပိတ်ဆို့ခြင်းများအတွက် ငွေစုမည်ဖြစ်သည်။ ဒီဇိုင်း၊ နည်းစနစ် (DM၊ ဒီဇိုင်းနည်းလမ်းများ) အတွက် PDKs နှင့် EDA အလိုအလျောက် ဒီဇိုင်းပလပ်ဖောင်းများသည် Samsung ၏ 7-nm စံနှုန်းများနှင့် EUV အတွက် ချစ်ပ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု၏ တစ်စိတ်တစ်ပိုင်းအဖြစ် ယမန်နှစ် စတုတ္ထသုံးလပတ်တွင် ရရှိလာခဲ့သည်။ ဤကိရိယာများအားလုံးသည် FinFET ထရန်စစ္စတာများဖြင့် 5 nm လုပ်ငန်းစဉ်နည်းပညာအတွက် ဒစ်ဂျစ်တယ်ပရောဂျက်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာစေရန် အာမခံမည်ဖြစ်သည်။

ကုမ္ပဏီမှထုတ်လုပ်သော EUV စကင်နာများကိုအသုံးပြုသည့် 7nm လုပ်ငန်းစဉ်နှင့်နှိုင်းယှဉ် အောက်တိုဘာလတွင် စတင်ခဲ့သည်။ ပြီးခဲ့သည့်နှစ်က 5 nm လုပ်ငန်းစဉ်နည်းပညာသည် ချစ်ပ်ဧရိယာအသုံးပြုမှု၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို 25% တိုးမြှင့်ပေးမည် (Samsung သည် chip area size ကို 25% လျှော့ချခြင်းနှင့်ပတ်သက်၍ တိုက်ရိုက်ထုတ်ပြန်ချက်များကို ရှောင်ကြဉ်ပြီး ကိန်းဂဏန်းများကို ထိန်းညှိရန် နေရာချန်ထားခဲ့သည်)။ ထို့အပြင် 5-nm လုပ်ငန်းစဉ်သို့ ကူးပြောင်းခြင်းသည် chip သုံးစွဲမှုကို 20% လျှော့ချနိုင်သည် သို့မဟုတ် ဖြေရှင်းချက်များ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို 10% တိုးစေမည်ဖြစ်သည်။ နောက်ထပ်ဆုကြေးငွေမှာ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ရန်အတွက် လိုအပ်သော photomasks အရေအတွက်ကို လျှော့ချခြင်းဖြစ်ပါသည်။

Samsung သည် Hwaseong ရှိ S3 စက်ရုံတွင် EUV စကင်နာများကို အသုံးပြု၍ ထုတ်ကုန်များကို ထုတ်လုပ်သည်။ ယခုနှစ် ဒုတိယနှစ်ဝက်တွင်၊ ကုမ္ပဏီသည် လာမည့်နှစ်တွင် EUV လုပ်ငန်းစဉ်များကို အသုံးပြု၍ ချစ်ပ်များထုတ်လုပ်ရန် အသင့်ဖြစ်မည့် Fab S3 ၏ဘေးတွင် စက်ရုံအသစ်ကို အပြီးသတ်ဆောက်လုပ်မည်ဖြစ်သည်။

source: 3dnews.ru