与英特尔和台积电等主要半导体制造商不同,美光在部署用于DRAM生产的超高波长紫外光刻(EUV)设备方面进展缓慢。不过,据Technews报道,美光计划最早于今年在其10纳米1γ(1-gamma)工艺上启动EUV试生产。图片来源:micron.com
来源: 3dnews.ru
与英特尔和台积电等主要半导体制造商不同,美光在部署用于DRAM生产的超高波长紫外光刻(EUV)设备方面进展缓慢。不过,据Technews报道,美光计划最早于今年在其10纳米1γ(1-gamma)工艺上启动EUV试生产。图片来源:micron.com
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